一、简介
董鑫,吉林大学“唐敖庆学者”英才教授,博士生导师。2002年毕业于吉林大学物理学院,获理学学士学位;同年考入必一运动B-sports官方网站攻读硕士学位;2005年考入大连理工大学物理与光电工程学院,攻读博士学位。2008年毕业后来校工作。2013年5月至2014年5月赴美国北卡罗来纳州立大学工程学院从事访问学者工作。在宽禁带半导体领域共发表论文一百余篇;获国家发明专利授权十余项;主持或参与国家重点研发计划项目、国家自然科学基金项目、GF预研项目、吉林省科技发展计划项目、吉林省自然科学基金项目等10余项,科研经费总额500余万元;获吉林大学教学质量奖,吉林大学师德先进个人。
二、研究方向
从事宽禁带半导体材料Ga2O3、GaN及相关材料的MOCVD生长、表征及相关光电器件、功率器件的制备与研究工作。
三、承担科研项目及获奖
1、科技部重点研发计划课题,氧化镓外延薄膜与掺杂,2022/11-2025/10,300万元,主持
2、GF装备预先研究项目, *****单晶材料研究,2020/10-2022/09,100万元,主持
3、国家自然科学基金项目,高耐压、低损耗的Si衬底Ga2O3 MOSFET器件制备研究,2018/01-2021/12,75.6万元,主持
4、吉林省科技厅重点科技攻关项目,GaN 基解理腔蓝、绿光激光器的研制,2017/01-2019.12,50万元,主持
5、GF科工局稳定支持项目,超宽禁带Ga2O3新型器件技术研究,2019/10-2021/06,30万元,主持
6、GF重点实验室基金项目,Ga2O3 材料的高温金属有机化学气相沉积外延生长技术研究 ,2018/01-2019/12,21万元,主持
7、吉林省自然科学基金面上项目,p型纳米结构氧化镓薄膜制备研究,2023/01-2025/12,5万元,主持
四、讲授课程
本科生:半导体物理学
研究生:先进半导体器件
五、代表性工作及论文
1、“Selective-area growth of β-Ga2O3 nanowire films on nano-patterned Si(111) substrate by metal-organic chemical vapor deposition”, Ceramics International 49 (2023) 22170–22176
2、“Surface morphology evolution and optoelectronic properties of heteroepitaxial Si-doped β-Ga2O3 thin films grown by metal-organic chemical vapor deposition”, Ceramics International 44 (2018) 3122–3127
3、“Preparation of high light-trapping β-Ga2O3 nanorod films via thermal oxidation of GaAs and metal-organic chemical vapor deposition”,Materials Science in Semiconductor Processing 169 (2024) 107912
4、“Self-powered Schottky barrier photodiodes based on homoepitaxial Ga2O3 film”,Materials Letters 349 (2023) 134847
5、“Self-powered flexible UV photodetectors based on MOCVD-grown Ga2O3 films on mica”,Materials Science in Semiconductor Processing 165 (2023) 107706
6、“Fabrication of Ga2O3 Schottky Barrier Diode and Heterojunction Diode by MOCVD”,Materials 15(2022)8280
7、“Preparation of High-Thickness n--Ga2O3 Film by MOCVD”,Coatings 12(2022) 645
8、“Solar-blind ultraviolet photodetectors based on homoepitaxial β-Ga2O3 films”,Optical Materials 122 (2021) 111665
9、“Stable Electron Concentration Si‐doped β‐Ga2O3 Films Homoepitaxial Growth by MOCVD”,Coatings 11(2021)589
10、“Single crystalline β-Ga2O3 homoepitaxial films grown by MOCVD”,Vacuum 178 (2020) 109440
六、报考要求
招收对半导体物理与器件专业有较浓厚兴趣,理论基础扎实,刻苦钻研,动手能力强,具有团队意识的硕士与博士生。微电子学、电子科学与技术、物理学等专业背景优先。
七、毕业生去向
课题组的毕业生主要去向高等院校,科研院所,半导体器件、芯片制造等高技术企业。
八、联系方式
办 公 室:吉林大学前卫南区唐敖庆楼D区433房间
电 话:(0431)85168241-8433
E-mail:dongx@jlu.edu.cn